原子层沉积（ALD）技术是一种先进的薄膜制备技术，其特点在于能够在原子尺度上实现对薄膜成分厚度的精确控制。

  新材料学院王新炜课题组一直致力于新型ALD方法的开发与研究。近些年来，该课题组开发了多种新材料的ALD工艺，如硫化钴（Nano Letters (2015) 15, 6689）、硫化镍（Chemistry of Materials (2016) 28, 1155）、氧化钒（Advanced Functional Materials (2016) 26, 4456）等，并将这些材料应用于能源器件和有机电子器件中，展示了所制得ALD材料的多种优异性能。

  近日，该课题组又开发了一种新型的硫化铁材料的ALD工艺。该工艺所制得的ALD硫化铁薄膜材料具有优异的有机催化性能，可以有效地催化偶氮苯类化合物的加氢反应。该工作于近期在线发表在《应用化学（Angewandte Chemie）》(DOI: 10.1002/anie.201700449)。该论文的（共同）第一作者是新材料学院的博士后邵友东和2016级博士生国政。

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Youdong Shao#, Zheng Guo#, Hao Li, Yantao Su, and Xinwei Wang*, “Atomic Layer Deposition of Iron Sulfide and Its Application as a Catalyst in the Hydrogenation of Azobenzenes”, Angewandte Chemie International Edition Early View (2017). (#Equal contribution)

 DOI: 10.1002/anie.201700449